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          技術支持

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          鍍鉻添加劑HEEC系列說明書

          一、簡介 

          HEEC系列鍍鉻添加劑有機復合添加劑的一種。適合于鍍硬鉻、微裂紋鉻、裝飾鉻等。應用該添加劑及其工藝,鍍層質量高、工藝穩定、生產效率高、節約電能、降低成本、節省時間、經濟效益顯著。工藝可應用于紡機、活塞環、凹印制版、減震器、結晶器、瓦楞輥、液壓支柱、軍工產品、日用五金等方面。 

          二、分類 

          高效硬鉻添加劑:HEEC-1、HEEC-2、HEEC-3、HEEC-4;裝飾鉻添加劑:HEEC-5。 

          三、區別 

          1、HEEC-1/2/3/4高效硬鉻添加劑工藝 


           1)工藝特點



           HEEC-1 

          HEEC-2 

          HEEC-3 

          HEEC-4(專利產品) 

          特 

          點 

          不 

          同 

          點 

          1、無氟無稀土,但由于具有強氧化性,所以對陽極破壞性強。 

          2、可以應用于鋁合金、鋼鐵、不銹鋼、銅等表面鍍硬鉻。 

          1、無氟無稀土,對陽極、槽體和工件無腐蝕。 

          2、主要使用于模具、深孔、結晶器、汽缸等復雜工件鍍硬鉻。

          1、無氟無稀土,對陽極、槽體和工件無腐蝕。 

          2、高效應用煤礦機械,油田機械、造紙機械、凹印制版等鍍 

          硬鉻。 

          1、無氟無稀土,對陽極、槽體和工件無腐蝕。 

          2、可以應用于汽缸、輪轂、減震器、橋梁支柱等鍍硬鉻。 

          3、鹽霧試驗高。 

          相 

          同 

          點 

          3、陰極電流效率高,可達22%~27%,這樣可節約電能一半左右。 

          4、光亮電流密度范圍寬,鍍層結晶細致光亮,可得白亮青亮烏亮。 

          5、深鍍能力好,參考直角實驗,優越普通工藝。 

          6、硬度高,厚度在10~20μm范圍內的鍍層,可達750HV~1280HV。

          7、鍍層呈微裂紋,數量可達400~1000條/厘米,所以耐蝕性強。 

          8、鍍液穩定,抗雜性強,易于操作維護,鹽霧試驗達6~11級,這個工藝控制有直接關系。 

          總之,HEEC-1系應用于所有工件,但缺點是陽極腐蝕。HEE-234系是不腐蝕陽極的,其中HEEC-2系側重深孔、模具等復雜工件硬鉻,HEEC-3系應用廣泛,HEEC-4系側重于對鹽霧試驗要求高的工件(專利產品)。 

          2)工藝范圍 

          鉻酐(CrO3) 150~450g/L 250g/L 

          硫酸(H2SO4) 1.5~5g/L 2~3.0g/L 

          添加劑(HEEC) 10~40mL/L 20 mL/L 

          電流密度 15~80A/dm2 30-80A/dm2

          溫度 55~65℃ 60℃ 

          S陽極:S陰極 3:2~2∶1 ≧ 2∶1 

          3)添加劑補充 

          方法1:每加一公斤鉻酐同時加HEEC-100補缸劑15~30mL。 

          方法2:按消耗量補加,消耗量為2~3 mL/KAh。 

          方法3:按鍍層量補加,每平方分米每絲消耗添加劑是:6~8mL。 

          4)沉積速度 電流密度(A/dm2) 

          … 

          30 

          40 

          50 

          60 

          80 

          … 

          HEEC工藝沉積 

          鍍層厚度(μm) 

          … 

          25-35 

          35-45 

          45-55 

          60-70 

          85-100 

          … 



          5)鍍層硬度 

          控制溫度和電流,韋氏硬度可以從原來基礎上提高200~500HV。舉例說明: 

          ①鋼提表面鍍硬鉻,傳統工藝硬度達600~800HV, HEEC工藝達850~1200HV。 

          ②硬銅表面鍍硬鉻,傳統工藝硬度達500~700HV, HEEC工藝達750~1000HV。

          鍍鉻溶液成分分析方法

          6)微裂紋

           


          微裂紋數目比傳統工藝多,經過工藝的各個參數可以控制微裂紋的數量,同時鉻層的耐腐蝕性和耐磨性。一般可控制在400~900條/平方厘米。

          7)深鍍能力 

          深鍍能力大大提高,因工件不同而不同。100mm×200mm試片的90°和30°角可以參考


           

          90°標樣    傳統工藝   HEEC工藝     30°標樣    傳統工藝   HEEC工藝

          8)鍍液雜質 

          鍍硬鉻溶液中多余的三價鉻、鐵、銅等金屬離子雜質過多時,會降低鍍液的導電性,會使厚鍍層產生粗糙,光亮范圍變小。平時盡力維護鍍液不要使雜質增多。 

          傳統工藝總雜質含量不能超過18g/L。 

          HEEC工藝總雜質含量不能超過30g/L。 

          雜質過多,可以采用太原特益達科技有限公司專利產品TYR-EDTM-RHI或TYR-EDTM-LTI鍍鉻快速凈化設備處理。 

          9)工藝轉缸 

          由普通鍍鉻液轉換為HEEC系列快速鍍鉻液特別容易,鍍液雜質不超標,不含氟化物,可直接按HEEC工藝加添加劑生產,亮度從白亮變成烏亮或蘭亮。 

          如果以前加過稀土或氟化物必須進過詳細的化驗,進行調整可轉換為HEEC工藝。 

          10)開缸配制方法 

          ①先加入鍍液總體積70%的純水,計算稱量鉻酐和硫酸,進行溶解。 

          ②鉻酐完全溶液后,補加純水至所需體積,攪拌均勻,取樣分析,調整硫酸的含量。 

          ③加入HEEC添加劑并攪拌均勻。 

          ④安裝接通鉻霧回收裝備。沒有情況下,可適當加入鉻霧抑劑或鉻霧抑制塑料浮球。 

          ⑤升溫,并電解4~6小時。 

          ⑥溫度至工藝范圍進行試鍍,試鍍成功后就可以正式投入電鍍生產。 

          2、HEEC-5裝飾鉻(光亮鉻)添加劑工藝 

          1)特點 

          屬一種復合酸型裝飾鉻添加劑,應用于裝飾性光亮鉻鍍層。HEEC-5在很寬的電流密度范圍內仍具有極佳的覆蓋能力。適用于200~300g/L鉻酸配方。鉻酸濃度越高,越能增強導電性,越提高抗雜質污染的能力,生產穩定性越好。 

          2)工藝范圍

          200 g/L 300 g/L (標準) 

          鉻酐(CrO3) 180~220g/L 280~350g/L (范圍) 

          硫酸(H2SO4) 1.0g/L=0.37mL/L 2.1g/L=0.77mL/L(標準) 

          0.9~1.2g/L 2.0~4.0g/L (范圍) 

          比重(BeO) 16~19 23.5~38.5 

          添加劑HEEC501 20mL/L 30mL/L (標準) 

          18~22mL/L 28~35mL/L (范圍) 

          添加劑HEEC501 20mL/L 30mL/L (標準) 

          18~22mL/L 28~35mL/L (范圍) 

          3)操作范圍 

          溫度 40℃ (30-50℃) 

          陽極電流密度 20A/dm2(15-25A/dm2 ) 

          陰極電流密度 10A/dm2(5-25A/dm2) 

          電壓 6~12V 

          4)沉積速度(40℃)

          電流密度(A/dm2) 

          10 

          15 

          20 

          鍍層速度(μm/min)

          0.12

          0.20 

          0.30 


          5)添加劑補加 

          每添加50公斤鉻酐,需要補加5升HEEC-501和5升HEEC-502。 

          6)陽極 

          采用鉛錫合金陽極,需要周期清洗。 

          陽極的電解極其重要,必須在放入操作液應立即進行,使用仿鋼陽極,電流密度15~25 A/dm2,處理時間1~2h。 

          7)比重 

          比重最佳是每天測試,這樣可以保持質量穩定。需要強調的是:每噸鍍液添加15公斤鉻酐,比重會上升1BeO。同時確保補加1.5升的HEEC-501和1.5升的HEEC-502。 

          8)加熱/冷卻

          加熱和冷卻使用特氟龍或鈦管,使用鈦管時建議小陽極電流保護,最佳建議采用自動溫度控制儀。 

          9)攪拌 

          攪拌材質使用陶瓷、鈦、玻璃或塑料等。但攪拌只能用于工藝溫度均勻和濃度添加均勻,電鍍過程不需要攪拌。 

          10)鉻霧防御 

          安裝接通鉻霧回收裝備。如果沒有,可適當加入鉻霧抑劑或鉻霧抑制塑料浮球。 

          11)鍍液雜質 

          三價鉻小于6g/L、鐵、銅等金屬離子雜質總雜質含量不能超過15g/L。 

          注意鐵離子影響很大。 

          12)開缸配制方法 

          ①先加入鍍液總體積70%的純水,計算稱量鉻酐和硫酸,進行溶解。 

          ②鉻酐完全溶液后,補加純水至所需體積,攪拌均勻,取樣分析,調整硫酸的含量。 

          ③加入HEEC-501和502添加劑并使用塑料棒攪拌均勻(切記:HEEC-501和HEEC-502在添加前不能混合,以防危險或失效)。 

          ④安裝接通鉻霧回收裝備。沒有情況下,可適當加入鉻霧抑劑或鉻霧抑制塑料浮球。 

          ⑤升溫,并電解4~6小時。 

          ⑥溫度至工藝范圍進行試鍍,試鍍成功后就可以正式投入電鍍生產。


          特別聲明

          此說明書內所有提議或關于本公司產品的建議,是以本公司信賴的實驗及資料為基礎。因不能控制其他從業者的實際操作,故本公司不能保證及負責任何不良后果。此說明書內的所有資料也不能用為侵犯版權的證據。

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